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LoL赛事- LoL投注- 2025年最佳英雄联盟投注网站深圳市大德激光申请激光切割半导体材料专利有效避免传统切割方法中的崩边等问题

  • 发布时间:2026-01-19
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  专利摘要显示,本申请涉及半导体材料加工技术领域,更具体地说,它涉及一种激光切割半导体材料的方法和设备,包括对半导体材料整体进行加热处理,以提高材料的可加工性;随后,利用激光对半导体材料内部进行隐形切割,通过激光聚焦在材料内部形成改质层,而不损伤材料表面;切割完成后,停止加热并对改质层对应的表面进行冷却,利用冷热温差产生的应力辅助断裂;最后,在改质层处施加外力,使半导体材料沿改质层精确断裂,形成独立的晶粒。通过上的技术方案,有效避免了传统切割方法中的崩边、分层和表面损伤问题,显著提高了切割质量和效率。